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HTL-200JS恒溫金屬浴

簡(jiǎn)要描述:

恒溫金屬浴:控溫精度高,制樣平行性好,以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴(kuò)增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等

HTL-200JS恒溫金屬浴
  • 詳細(xì)介紹

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QQ圖片20231207234705.jpg

恒溫金屬浴 可定制

恒溫金屬浴:控溫精度高,制樣平行性好,以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴(kuò)增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等

常用于分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn),如酶切、蛋白質(zhì)變性、融化瓊脂糖、核酸擴(kuò)增檢測(cè)預(yù)反應(yīng)等,以及其它實(shí)驗(yàn)的樣本保存、血清快速析出、凝固等,無須擔(dān)心水意外進(jìn)到反應(yīng)管中而影響到實(shí)驗(yàn),又可避免了傳統(tǒng)水浴加熱污染的問題。此外控溫更精,可控溫范圍也更大。是傳統(tǒng)水浴裝置的良好替代品

恒溫金屬浴技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

HTL系列

加熱塊容量

恒溫金屬浴可選模塊/可定制

溫度控制

智能PID控制系統(tǒng)

控溫范圍

室溫~300°C

控溫精度

±0.1~0.5℃

溫度均勻性

±0.5℃

顯示精度

0.1

定時(shí)范圍

1~9999分鐘(小時(shí))或連續(xù)運(yùn)行

升溫時(shí)間

≤30 分鐘(30℃至160℃)

電壓/頻率

220VAC±10%或110VAC±10%

50/60Hz

尺寸

定制

凈重

定制








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